Síntesis y estudio del efecto del sustrato sobre las propiedades morfológicas de películas delgadas de Silicio intrínseco
Anderson Dussan Cuenca
Fredy Giovanni Mesa Rodríguez
Camilo Hidalgo
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Palabras clave

Silicio
AFM
películas sólidas finas
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Resumen

En este trabajo se presenta un estudio detallado de la morfología de películas delgadas de silicio microcristalino (mc-Si) intrínseco depositado sobre diferentes sustratos: vidrio Corning 7059, acero inoxidable, Si monocristalino con crecimiento en el plano (111). Las muestras de Si fueron preparadas por el método de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PECVD). La morfología fue estudiada a partir de medidas de Microscopía de Fuerza Atómica (AFM) realizadas a temperatura ambiente y presión atmosférica. Se evidenció que las muestras de Si depositadas sobre acero inoxidable presentan regiones marcadas por fisuras presentes en el sustrato en comparación con las muestras depositadas sobre los otros sustratos. Se observó que un crecimiento en forma de ramal, influencia la nucleación de los granos cuando el Si se deposita sobre Si monocristalino. Se obtuvo un valor para el tamaño de grano menor a los 10 nm en todas las muestras y una rugosidad dependiente del sustrato que varió entre 400 y 750 nm

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